2025年6月25日-27日，第六届世界光子大会将在北京国家会议中心盛大开幕。 （以下简称“ ”）受邀出席本次大会，并作《相控阵高强度辐射场系统架构及优化测试方法》专题报告，欢迎广大领导专家莅临 T28-1号展位指导交流。

本届大会由中国光学工程学会 (CSOE) 、国际光学工程学会 (SPIE) 等国内外权威机构联合主办，大会包括“第14届国际应用光学与光子学技术交流大会 (AOPC 2025)”和“第十六届中国光电子产业博览会”，预计超过3000名全球光电领域的精英学者、企业家和技术专家与会。

展会期间， 将展示高强度辐射场（HIRF）系统、系统级电磁环境效应试验系统等多个测试测量方案亮相T28-1展位，期待与国内外专家学者共同探索全球光学及光电子领域的前沿技术及最新应用。

基于相控阵近场技术的高强度辐射场(HIRF)系统，以合成场强高、焦斑可定义、波束可扫描等特点已成为电磁效应试验领域的主流。 结合近年在 HIRF 系统领域的研制经验和产品积累，将分享一种相控阵体制 HIRF 系统的设计架构及优化测试方法。

2025年6月25日-27日

北京国家会议中心